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第419章 被打开的门不只一扇

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    第419章 被打开的门不只一扇 (第1/2页)

    白板前李东停下了笔。

    几个工程师互相看了看,眼里那点睡意,早不知道飞哪儿去了。

    “大概,就是这麽个意思。”李东看着众人,“明白吗?”

    在场没有人说话,他们都齐刷刷的看向了王勍。

    而王勍这会儿正看着白板出神。

    林伟皱了皱眉,伸手在他肩上拍了一下。

    “老王,你怎麽说?”

    王勍这才反应了过来。

    “还……还能这麽干?”

    他话都说来有点不利索了,声音里那股子兴奋,怎麽也压不住。

    然後他也没顾着林伟的问话,而是招呼了几个在场的工程师,给他们说了几个原生指令、几个数据通路。

    让他们拿真东西上去跑一跑,把这条路彻彻底底地验上一验。

    总之就是要去落实了。

    而他自己也只是冲着李东点了点头也跟了出去。

    林伟看着他这架势,悄悄松了口气。

    老王这人,他是了解的。

    但凡到了这个样子,那他心里多半就已经有几分把握了。

    他这才回过头看着李东,郑重地说道。

    “李东教授,谢谢你。”

    李东被他谢得有点莫名其妙。

    “林总,你这是什麽话。”他摇了摇头,“该是我谢你们才对。”

    林伟也没再多说什麽,只摆了摆手。

    “以後事上见吧。”

    接下来,就是等。

    李东和林伟也没有其他的事,索性就坐下来有一搭没一搭地聊着。

    不知怎麽,话头就聊到了加速卡上了。

    林伟给李东递了杯水,半是感慨地说道。

    “等这回模型在加速卡上落地、真跑通了,往後芯片上怕是还得请您再帮帮忙。”

    “我们现在这条线,到七纳米也就到头了。”

    “再往下就绕不开极紫外光刻机了,可是我们做不出来呀。”

    华夏眼下能拿得出手的,是上一代的浸没式光刻机(DUV),要不是李东的降维算法,7纳米的芯片都别想。

    可就算这样基本上也是这条路的尽头了。

    而林伟说的那个极紫外光刻机(EUV)。

    它用的光,波长只有十三点五纳米,比DUV那一百九十三纳米,足足短了十几倍。

    而难就难在这十三点五纳米上。

    这麽短的光,没有哪种镜片透得过去,整台机器的光学系统,只能全用反射镜。

    每一面都是几十层钼和矽交替镀上去的。

    这种平整到近乎一个原子都不许差的镜面,眼下只有一家公司能做,它叫蔡司。

    除开镜面的问题,还有光源更麻烦。

    这得拿一束大功率的二氧化碳激光,一秒锺几万次去轰一颗颗高速飞着的锡液滴,把它打成等离子体,才挤得出那一点点十三点五纳米的光。

    再算上掩膜、光刻胶、工件台,一整条供应链,环环相扣缺一环都转不起来。

    而是这一整台极紫外光刻机,连同它身後那条供应链,被ASML、蔡司这些公司攥在手里攥了几十年了。

    华夏想从头把这一整套趟出来,缺的是是积累。

    李东听完,点了点头,他知道极紫外这条路是急不得的。

    不知不觉,窗外的天,已经彻底亮了。

    实验区

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